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0731-85261330nipponsteel日本制鐵用于半導體制造的NSCP/清潔管道的資料
高平滑性
清潔管所要求的一個特性是內(nèi)表面的平滑性。附著在凹凸上的粉塵、水分等會污染半導體制造氣體,導致半導體產(chǎn)品的成品率下降。NSCPN·D·S采用提高平滑性的拉拔技術(shù)進行加工后,除了維持其平滑性的“光輝熱處理(BA)精加工"外,還采用“微細加工"準備了3種光澤:將顆粒和油分去除到極限的BAS精加工"“實施了業(yè)界最高水準的平滑性而自豪的電解拋光的EPS精加工。NSCPA在焊接制造管時,采用醫(yī)用配管培養(yǎng)的內(nèi)表面焊道平滑技術(shù),然后通過機械研磨(MPS)或電解研磨(EPS)進行精加工,實現(xiàn)了與普通焊接管不同的高內(nèi)表面平滑性。
AP處理
表面照相
BA處理
表面照相
EP處理
100 微米表面照相
高耐食性·高清浄性
在大量使用腐蝕性高的氣體的半導體制造中,配管和焊接部的腐蝕直接導致裝置壽命下降和半導體制造的成品率下降。NSCP系列根據(jù)腐蝕環(huán)境,提供高耐腐蝕Ni基材料(NSCPN)、雙熔高純度材料(NSCPD)和單熔材料(NSCPS)。全部在日本制鐵集團-貫的高品質(zhì)管理下制造,實現(xiàn)了穩(wěn)定的耐腐蝕性、清潔性。
真空誘導溶解
CVIM)
真空電弧重熔
(VAR)
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